上星期美国卫生部宣布，叠氮基腺嘧啶核甙（AZT）是有希望治疗艾滋病（获得性免疫缺陷综合症）的第一种药物。第二阶段临床药物试验结果令人鼓舞，卫生部已中途修正研究计划，对使用宽慰剂的对照组提供药物。

不过与此有关的人迫不及待地指出，说此药可治疗艾滋病尚无证据。到目前为止，试验仅证明这种药可以延长部分病人的寿命。上星期五博罗斯、威尔科姆和卫生部公布了对282名患者的试验结果，其中服用AZT的艾滋病患者比服用安慰剂的死亡率低许多。在6个月研究期间，服用安慰剂组有16人死亡，而服用AZT组只有1人死亡。而且病人患淋巴瘤与卡波氏肉瘤以及传染疾病的发生率也低一些。他们体重增加，免疫功能有所改善。

AZT的作用在于它可以抑制转录酶的逆转。转录酶把RNA后病毒——例如引起艾滋病的那一种转变成DNA，进入受感染细胞染色体内，不断复制病毒。作为核甙类物，AZT合入DNA链中，其不规则结构使转录作用终止，从而停止病毒复制。全国癌症研究所临床副主任萨缪尔、布罗德认为，有证据表明AZT可以防止免疫系统进一步恶化，甚至使其部分恢复。

如果AZT阻碍还原滤毒染色体组的复制，为什么它不干扰正常细胞功能必需的聚合酶呢？布罗德认为，聚合酶对药的敏感性要低得多，并说这可以解释观测到的某些AZT服用者的骨髓受到遏抑的现象。的确，造成贫血、中性白细胞和粒细胞减少是AZT的最主要的副作用。

[徐元春译自《自然》（日），1986年9月25日]

心脏病与遗传基因缺陷有关

据《新英格兰医学杂志》报道：心脏血管病是由遗传基因的缺陷所致。经初步探讨，查实是与一种以异态形式存在、被命名为“阿朴脂蛋白——B”（Apolipoprotein B）的遗传基因有关。随着这个发现，将开辟一条诊治这类心脏病的新途径。

美国罗德岛州米里亚姆医院的彼得 · 赫伯特医师说：“多数的心脏血管病是多个遗传基因与环境因素相互作用所形成。就此，我们共展开了七个项目的研究，已接近问题的根源，探讨仍在进行中。”

[葛明译自《国际先驱论坛报》1986年12月18日]

辉光放电法固氮

固氮一一迫使空气里的氮气直接跟氢气反应生成氨气的过程——是由一些细菌和蓝绿澡来完成的。（New Scientist，10 April，P30）另一方面化学家们须得花很大代价才能摸造出这些低等生物体。关键的问题是如果没有大量能量不活泼的氮气分子绝不会起反应生成氨气。目前日本科学家们已经发现让大量的电流通过氮气，它们能产生足够的能量使氮气去捕捉水中的氢气从而生成氨气。

托斯库巴（Tsukuba）大学的康路 · 享洛德（Kaoru. Harada）教授和化学家们使用辉光放电技术从氮气、水和酸中制造氨气。（Journal of the Chemical Society Chemical Communications 1986，P1384）辉光放电时让强大电流通过水面上的氮气。其效果同闪电通过大气层下到地面相似，这就充分地激化氮气强迫它水反应，可能由于打断了氮气和水分子的键使之变成单体氮和氢原子。然后这些原子组合构成NH和NH₂再变成NH₃（氨气）。在溶液中同时出现NO^-离子。假如穿过气体的电位差能保持稳定，那么氨气就会源源不断地产生。

很遗憾的是需要大量的能量才能产生辉光放电。相比之下，在工业上使用哈伯制氨法来合成氮气和氢气可能更经济一些。但研究家们也发现假如我们加一些有机酸如醋酸到溶液中，辉光放电的结果会产生氨基醋酸和氨基丙氨酸。在这种情况下形成的氨基酸同十九世纪五十年代斯坦德利 · 米勒（Stanley Miller）的实验构成一个很有趣的比较，在那个实验里他模拟生命出现以前地球上可能存在的环境状况。水和氮气是大气的两个主要成分，此时辉光放电起着自然界闪电的功能。因此，通过辉光放电合成氨的过程同时也产生大量氨基酸，从而形成蛋白质等。

[王贤菲译自New Scientist1986年10月21日]

传统记录技术的新生

在目前计算机制造业把信息压缩到最小空间的竞争中，日本某些厂家认为新的磁性记录比光符记录更精确。这种新一代硬磁盘机附有用薄膜片制成的媒体和磁头。

做出取用磁性记录法的决定是以存取时间为基础的。鉴于它们巨大的储存容量，最好的光感磁盘机能做到的存取时间是200毫秒，比起一部速度快的硬磁盘机所用的15毫秒，恰如蜗牛走一步路。光符磁盘机的传送率亦很慢——每秒700千位（7×10⁵位），而硬磁盘机则为3兆位（3×10⁶位）或更多。

速度差别悬殊的主要原因取决于磁头的尺寸。光符磁盘机是用笨重的汇编聚焦法存取数据的，相反，硬磁盘机的磁头就小巧得多了。

与在铝盘底部涂覆氧化物的常规技术相比，薄膜片可以用电镀法或溅射法制得。无论用哪种，最后总能得到0.2微米厚的镀层，总共比涂覆磁盘薄十倍。这两项新技术的差别是，电镀法比较容易一把磁片浸泡在含有镍、磷性粉等化学药剂的电镀槽中，每次放几百片。溅射法则较慢、较贵，需要在高真空条件下用离子去轰击理想中的材料的样标，使原子纷纷脱离，从而在磁盘底层形成薄膜。溅射法的一个优点是能更好地控制附着于磁盘表面的材料成分。而电镀法，则取决于化学反应。此外，电镀槽中会生成杂质，导致质量变化。涂覆磁盘每英寸的磁通变量最多可达20，000，而薄膜磁盘也能胜任，因为在理论上可倚存的磁通变量可达100，000。但由于成本较低，涂覆磁盘在世界硬件市场上销量达90%以上。

薄膜磁量至今仍主要限于在大型机上使用，不过，日本的几家公司如NEC、Fujitsu（占全世界大容量磁盘商业市场销量的60%），指望5.25和3.5英寸的薄膜磁盘能迅速推广到小型机上，以发挥这些优点。

一般的硬磁头是由众多的压缩铁氧体构成的。这些铁氧体一边有一个环，环上有一个缺口。在这个环上绕制线圈，线圈在缺口处产生磁场以调整磁盘上氧化粒的方向。

铁氧体磁头的运转率可达150兆字节，而薄膜磁头超过这一指标，因而它变得不可缺少了。理由之一是薄膜磁头能极为精确地组合，这样磁轨数就能被成双地压缩到一个磁盘上；理由之二是，由于薄膜磁头的线圈比常规的手工绕制的线圈小1000倍，电阻很小，因而薄膜磁头线圈的电感也很小，这就意味着能产生每秒钟6兆字节的传送率；理由之三是薄膜磁头比起常规磁头有更好的高效灵敏度，使它们能够应付高速的磁盘的运转。

薄膜磁头的制造与半导体相像，同制模子一样，在单晶硅片上用光刻法制作线圈及其附件，一片三英寸的单晶硅片能够制成800个磁头。然而，制作薄膜磁头毕竟与半导体不同，它需要在极其严格的机械条件下操作。薄膜磁头在间隔仅为0.3微米的旋转磁盘上运转。磁盘停止驱动时，磁头（在寄存器中每一磁盘有二个磁头）在媒体表面处于暂停状态，直至磁盘再次驱动为止。为防止两个磁头都退磁，磁盘表面必须喷涂几个分子大小厚度的润滑剂层，但如果润滑层过厚，则磁头接触磁盘程度过小，磁盘的耐久性受到损失。

眼下热门的话题是“tribology”。所谓“tribology”系指润滑与磨损表面间摩擦的学问。透彻地理解“tri-bology”对探索人员为扩充记录密度来说是至为重要的，因为达到了这一点就意味着能够再次降低磁头的运转高度。

通过使用由一层竖向钴铬层和一层无定型锆组成的磁头，Fujitsu取得了每英寸记载量为70，000磁通变量的成果。这样，磁头达到了0.05微一一与实际使用要求相比仍太低。

[陈崖峰译自New Scientist，1986年9月18日]